Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd. on Hiinas üks juhtivaid andmekeskuste hfe 7200 sukeljahutuse tootjaid ja tarnijaid. Kui otsite andmekeskuste jaoks hfe 7200 sukeljahutust, ostke meie tehasest meie kvaliteetseid tooteid konkurentsivõimelise hinnaga. Hinnapakkumise saamiseks võtke meiega ühendust.

HFE 7200 kümblusjahutus andmekeskuste jaoks Tel:+86-592-5803997

Mis on HFE 7200?

HFE 7200 on spetsiaalselt konstrueeritud hüdrofluoroeetervedelik, mis on loodud ühefaasiliste sukeljahutusrakenduste jaoks. Selle ainulaadsed omadused muudavad selle ideaalseks-elektrooniliste komponentide otsekontaktiga jahutamiseks:

Mittejuhtiv-ja mitte-söövitav: Ohutu komponentide otseseks sukeldamiseks

Madal viskoossus: Võimaldab tõhusat soojusülekannet

Kõrge dielektriline tugevus: Kaitseb tundlikku elektroonikat

Keskkonnasõbralik: null ODP, madal GWP võrreldes alternatiividega

Andmekeskuste tehnilised eelised
Tel:+86-592-5803997

1. Erakordne termiline jõudlus

HFE 7200 tagab 3-5 korda parema soojusülekande efektiivsuse kui õhkjahutus, võimaldades:

Toetus kiibi võimsustihedusele üle 100 W/cm²

Pidevad töötemperatuurid optimeeritud jõudluse tagamiseks

Õhkjahutusega süsteemides{0}}levinud kohalike kuumade kohtade kõrvaldamine

2. Energiatõhususe läbimurre

Sukeljahutus HFE 7200-ga vähendab tavaliselt jahutusenergia tarbimist 90–95% võrreldes traditsiooniliste CRAC-süsteemidega:

Välistab vajaduse jahutite, ventilaatorite ja kõrgendatud põrandate järele

Võimaldab kõrgemaid töötemperatuure ilma jõudlust piiramata

Vähendab PUE (Power Usage Effectiveness) väärtuseni 1,02–1,05

3. Ruumi optimeerimine

5–10 korda suurem arvutustihedus ruutmeetri kohta

Jahutustaristu jalajälje kaotamine

Paindlikud juurutusvalikud, sealhulgas äärearvutusasukohad

hFE 7200 peamised rakendused Tel:+86-592-5803997

Suure{0}}jõudlusega andmetöötlus

AI/ML koolitusklastrid

Teaduslikud simulatsioonid

Krüptoraha kaevandamise operatsioonid

Suure{0}}tihedusega serverid

Pilve infrastruktuur

Ettevõtte andmekeskused

Telekomi äärearvutus

Spetsiaalne riistvara

ASIC{0}}põhised süsteemid

FPGA kiirendusplatvormid

GPU-arvutusfarmid

HFE 7100 VS 3M Novec 7100
Tel:+86-592-5803997

Näidisnimi	HFE 7200	november 7200
CAS nr.	163702-06-5	163702-05-4 163702-06-5
Keemistemperatuur (kraad)	76 kraadi	76 kraadi
Aururõhk (25 kraadi)	14,5 kPa	14,5 kPa
Tihedus (kg · m3, 25 kraadi)	1432	1430
Kinemaatiline viskoossus (cst, 25 kraadi)	0.4853	0.61
Pindpinevus (mN·m-1, 25 kraadi)	14.12	13.6
Dielektriline tugevus (kV, 2,5 mm, 25 kraadi)	Suurem või võrdne 9,7	/
Dielektriline konstant (@1MHz, 25 kraadi)	9.63	/
Leekpunkt	mitte ühtegi	mitte ühtegi
GWP	55	55
ODP	0	0

20. detsembril 2022 teatas 3M-i EMSD oma kavatsusest lõpetada -- ja polüfluoroalküülainete (PFAS) tootmine ning teha tööd PFAS-i kasutamise lõpetamiseks oma tooteportfellis 2025. aasta lõpuks.

Meie HFE 7200 on nutikas ja samaväärne alternatiiv 3M Novec 7200-le, pakkudes identset tehnilist tipptaset koos täiustatud varustuskindluse ja kulu-efektiivsusega. Avage oma soojushaldus- ja puhastusprotsesside kogu potentsiaal.

HFE 7200 füüsikalised omadused Tel:+86-592-5803997

Füüsilised omadused:

Välimus	Värvitu, läbipaistev	Lõhn	Nõrk lõhn
Molekulmass	264	Vedeliku tihedus	1,432 g·mL-1
Keemispunkt	76 kraadi	Külmumispunkt (1 atm)	-138 kraadi
Leekpunkt	N/A	Isesüttimistemperatuur	375 kraadi
Aururõhk (25 kraadi)	14,50 kPa	Varjatud aurustumissoojus	125,6 kJ·kg-1
Soojusjuhtivus (25 kraadi)	0.0631 W·m-1·K-1	Kinemaatiline viskoossus (25 kraadi)	0,4853 mm2·s-1
KB	3.57	Dielektriline kadu (1 MHz)	0.00063
Dielektriline konstant (1 MHz)	9.63	Mahutakistus (25 kraadi)	2,991 × 1010 Ω·mm
Dielektriline tugevus (2,5 mm)	Suurem või võrdne 9,7 kV	Süttivuse vahemik õhus	2.4-12.4%
Pindpinevus	14,12 mN·m-1	Äge mürgisus sissehingamisel (mg·m-3)	LC50＞20407.7
GWP	55	ODP	0